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納米材料高剪切研磨分散機
  • 產品型號:XMD2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2026-06-23
  • 訪  問  量:2522
簡要描述:

納米材料高剪切研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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產品詳情

納米材料高剪切研磨分散機

通常把粒徑在0.1~100納米(nm)范圍的粉末和材料叫做納米材料,其制造技術叫做納米技術,由于顆粒尺寸的微細化,使它的許多物理、化學性能產生了特殊的變化,人們將這些性能應用在化工、輕工、冶金、電子、高科技陶瓷、符合材料、核技術、生物醫學以及國防科技等領域,大大推經了這些領域的發展,可以說,納米材料正在滲入整個工業部門和高科技領域。納米產品在工業上應用是一個難題,特別是將功能性納米材料粉末分散在中高粘度的介質中,如果用普通高剪切分散設備去分散,需要超長時間的分散,而長時間的分散會導致發熱、結皮、老化,分散的均勻度還不能令人滿意。工程技術人員針對這種工況,創新設計,充分根據流體特性,將納米材料得到有效的分散。

納米材料分散機XRS2000采用的零部件,并傾盡全力將其優化組合,制成各方面都卓然出眾的藝術級工業化產品。這需要多年的經驗積累,以及技術沉淀,更重要的是將經驗和技術轉化為創新的能力。乳化機通過大能量的輸入即由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。乳化和分散的本質是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹,近似穩定均一狀態的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是,在某一能量水平上, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態的平衡。

三級高剪切分散機器,主要用于微乳液及超細懸乳液的生產。由于工作腔體內三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同工藝應用。該系列中不同型號的機器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴大規?;a。也符合CIP/SIP清潔標準,適合食品及醫藥生產。

高的轉速和剪切率對于獲得超細為懸浮乳液是重要的。根據一些行業特殊要求,其剪切速率可以超過15000rpm,轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XRS2000/4

300-1000

18000

44

4

DN25

DN15

XRS2000/5

1000-1500

10500

44

11

DN40

DN32

XRS2000/10

3000

7300

44

22

DN50

DN50

XRS2000/20

8000

4900

44

37

DN80

DN65

XRS2000/30

20000

2850

44

55

DN150

DN125

XRS2000/50

40000

2000

44

160

DN200

DN150

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